RU: В работе исследуется возможность создания антиотражающих покрытий на основе тонких пленок пироэлектриков. Предложена конструкция антиотражающего покрытия матричного типа и структура активного элемента матрицы. Показана возможность управления процессом поглощения и исследована радиационная стойкость покрытий.
EN: In paper the opportunity of making antiradiation of coverages is investigated on the basis of pyroelectric thin films. The construction antiradiation of a coverage of a matrix type and structure of a fissile device of a matrix is offered. The opportunity of process control of an absorption is shown and the radiation stability of coverages is explored.
UA: В роботі досліджується можливість створення антівідбиваючих покриттів на основі тонких плівок піроелектриків. Запропоновано конструкцію антівідбиваючого покриття матричного типу і структура активного елементу матриці. Показана можливість керування процесом поглинання і досліджено радіаційну стійкість покриттів.
